JSM-7610FPlus掃描電子顯微鏡統經過改進，實現了分辨率15kV 0.8nm、1kV 1.0nm的進一步提升，以嶄新的JSM-7610FPlus形象亮相。采用半浸沒式物鏡和High Power Optics照明系統，提供穩定的高空間分辨率觀察和分析。此外還具備利用GENTLEBEAMTM模式進行低加速電壓觀察、通過r-filter分選信號等滿足各種需求的高擴展性。

半浸沒式物鏡在樣品周圍形成強磁場，因而可以獲得超高分辨率。

er Optics 是*的電子光學系統，既實現了高倍率觀察又能進行多種分析。

浸沒式肖特基場發射電子槍，可以獲得10 倍于傳統肖特基場發射電子槍（FEG）的探針電流，光闌角控制鏡（ALC）在探針電流增大時也能保持小束斑，兩者組合起來能提供200 nA 以上的探針電流。強大的High Power Optics 系統，從高倍率圖像觀察到EDS分析和EBSD 解析可以一直使用高分辨率的小物鏡光闌而不需要改換。

JSM-7610FPlus掃描電子顯微鏡浸沒式肖特基場發射電子槍銃   

浸沒式肖特基場發射電子槍通過和低像差聚光鏡組合，可以有效地收集從電子槍內發射的電子。
光闌角控制鏡（ACL）
光闌角控制鏡（ACL）配置在物鏡的上方，在整個探針電流范圍內自動優化物鏡光闌的角度。因此，即使照射樣品的探針電流很大，與傳統方式相比，也能獲得很小的電子束斑。

即使探針電流很大，束斑直徑也很小
長時間分析時穩定度也很高