光催化氧化法處理有機廢氣

光催化氧化法概述：

光化學—催化氧化是近年來被廣泛研究的一類高級氧化工藝。光催化法是一種由光引發的化學反應。在電磁波照射下，分子處于激發狀態，與之進行化學反應，生成一種新的物質，或者作為一種熱反應引發劑。

光催化氧化法廢氣處理技術簡介和工藝流程：

Ti02是一種具有優異光電性能的半導體材料，在光催化領域具有廣闊的應用前景。半導體材料的能帶結構一般由一條低能帶（VB）和一條高能導帶組成，這兩條帶間的帶隙叫做帶隙。

當入射到半導體材料上的光能大于或等于帶隙時，其價帶電子會被激發，穿過禁止帶而進入導帶，在價帶內形成對應的空穴。電子從價帶被激發至導帶，在受激后，部分電子與空穴被分離，繼續發生化學反應。

影響光催化氧化法的幾個因素：

研究發現，反應物的起始濃度對催化劑的催化效果和降解速度都有很大的影響。結果表明，該體系的光催化活性隨初始濃度的升高而出現較大的變化，且有一個顯著的濃度轉捩點；在較低濃度時，對目標物有較好的去除效果。

目前關于濕度對催化活性的影響還沒有一致的結論。不同的化合物，不同的濃度，反應的結果是不同的。

光催化氧化法特點：

優勢：

該工藝具有處理效果好、操作成本低等特點，適合在較低濃度范圍內廣泛的 VOCs，尤其是對芳香族化合物有較高的去除效果；

缺陷：

對高濃度揮發性有機物的處理效果一般；目前該技術仍處于實驗室研究階段，并未得到廣泛的應用。