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超純水在工業中具有重要的應用價值。在半導體芯片制造過程中，無論是硅片清洗、蝕刻溶液的配制，還是光刻膠涂覆等環節，都需要使用超純水。因為即使是微量的雜質，也可能導致電路短路或者性能下降，影響半導體器件的質量和壽命。在火力發電廠中，超純水被用于鍋爐給水，可以減少鍋爐結垢，提高熱效率，延長設備使用壽命；在核電廠中，超純水是反應堆冷卻和蒸汽生成的關鍵介質。此外，在藥品生產和實驗室分析、精細化工、電池制造、表面處理等領域也有廣泛應用。
超純水得名是因為它的水質純度高，基本只含有氫原子和氧原子兩種成分，不含有普通水中一般含有的金屬離子、有機物、礦物質等成分。工業超純水設備生產超純水具有專業性，采用了“反滲透+EDI+拋光混床"的處理技術，確保出水水質穩定達標。
反滲透膜具有優良的離子過濾能力，采用了納米級的分離材料設計，并且化學性質穩定、水滲透效果好、通量大。通過這項技術，可以實現對超純水中除了水分子之外的雜質充分去除，無須高溫蒸發回收蒸汽，也不需要化學反應沉淀離子和礦物質。因而，它具有能耗低、出水水質穩定的優勢。
工業超純水設備中的EDI技術實現了超純水深度脫鹽，能實現帶電荷運行，加快了超純水中的離子遷移速度，制水時的脫鹽效果大大提高。拋光混床技術是工業超純水設備中的末端技術，是保障出水水質最后的“守門員"，發揮著舉足輕重的價值。
由此可見，工業超純水設備的技術設計強大，具有能耗低、自動化強、無污染、無死水的優勢，在超純水生產中具有專業性。
