集結技術，突破核心 | 賽默飛助力集成電路行業發展
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7月28日，賽默飛世爾科技聯合上海市計量測試技術研究院電子化學品平臺在上海共同舉辦“集結技術，突破核心——2020年集成電路行業發展與分析技術研討會”圓滿結束。業內一線專業大咖及行業技術精英100余人共同探討集成電路產業發展的挑戰與機遇，一覽前沿創新技術，探索突破核心方案。
集結技術 一覽重磅大咖的行業深度
集成電路是信息產業基礎，是構筑大國競爭力的核心產品。如何在多變市場環境下逆勢上揚，突破關鍵核心技術，維護產業鏈安全，確保供應鏈完整，已成為國家在產業布局方面的重要戰略考量。
本次研討會有幸邀請到上海市計量測試技術研究院電子化學品平臺的資深專家，以及來自上海，峨眉和青海的半導體檢測專家，為在場的與會者分享寶貴經驗。
五位專家提及的不論是實驗室的檢測操作需求，還是集成電路的檢測發展趨勢，對分析儀器有穩定可靠，智能靈活，適應性強，信息量大等需求。對此，賽默飛可根據客戶需求，提供完善解決方案。
突破核心 賽默飛集成上下游的分析檢測方案
差異化方案
賽默飛完善的產品組合滿足產業鏈從無機到有機ppt級分析要求
Dionex ICS-6000 HPIC高壓離子色譜系統：*半導體中ppt 級超純水、ppb 及ppm 級高純試劑中痕量陰陽離子雜質以及% 級混酸含量測定等分析對儀器耐用性和快速分析性能要求。
iCAP™ TQ ICP-MS: 可實現低至1ppt無機雜質元素分析。標配4路碰撞反應氣體，*消除多原子離子干擾；標配有機加氧裝置，可直接分析半導體行業的有機試劑。
GC1300氣相色譜，ISQ7000單四極桿氣質聯用儀：用于半導體中超潔凈室中超痕量VOCs的監測、電子特氣痕量雜質分析等應用需求，滿足靈敏度、穩定性及可靠性的要求。
前瞻性技術
借助Element 2 HR-ICP-MS和Element GD Plus GD-MS高分辨能力（zuigao分辨率可達10000），可區分質量數小于0.01 amu的質譜干擾，真正實現無干擾分析，并減少復雜的樣品制備和方法開發過程。
Element XR HR-ICP-MS高分辨電感耦合等離子體質譜儀：高純試劑、高純材料、高純氣體中痕量元素準確定量。
卓yue兼容性
賽默飛變色龍軟件可以兼容市面上幾乎絕大多數的色譜分析類產品，從而使用戶更容易上手不同的設備，如賽默飛變色龍軟件可以直接控制熱脫附產品；除此之外，賽默飛的設備也可以與在線集成商合作，從而實現在線IC、在線ICPMS等在線實時監控的成熟方案。
Element GD Plus GD-MS 輝光放電質譜儀：高純固體樣品直接分析，zui大化減少樣品處理步驟，降低沾污風險。
卓yue兼容性
賽默飛變色龍軟件可以兼容市面上幾乎絕大多數的色譜分析類產品，從而使用戶更容易上手不同的設備，如賽默飛變色龍軟件可以直接控制熱脫附產品；除此之外，賽默飛的設備也可以與在線集成商合作，從而實現在線IC、在線ICPMS等在線實時監控的成熟方案。
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