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多譜線光譜擬合技術

發布時間：2020-05-20

　　將基線和干擾元素校正(IEC)技術與電感耦合等離子體光學發射光譜法結合使用，以校正分析信號中來自等離子體、基質或分析物以外元素的貢獻。如果沒有對來自這些成分的貢獻進行準確校正，則會導致分析結果錯誤。但是，這兩種校正技術均依賴于內插或外推的校正因子。本文介紹了珀金埃爾默公司開發的多譜線光譜擬合(MSF)技術。

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