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       6月27-29日，半導體行業盛會SEMICON China 2020在上海新博覽中心舉行，較大的分析儀器制造商之一珀金埃爾默，攜全面的半導體行業解決方案，以及新的無機元素分析利器，業界化學高分辨多重四極桿ICP-MS NexION® 5000精彩亮相。現場來往的專業觀眾不少都被這臺具有超前性能優勢的新產品吸引駐足，與我們的技術人員交流了解。
 

　　NexION® 5000精彩亮相
 

　　在展會期間，珀金埃爾默應用市場高級產品經理受邀與27日下午的新技術發布會上發表主題演講《珀金埃爾默化學高分辨多重四極桿ICP-MS助力半導體工業無機元素檢測》。半導體行業是電子信息產業的基礎，更好的芯片一直是行業的核心追求之一。在指甲蓋大小的芯片上可能集合了近萬米金屬線和幾千萬甚至上億根晶體管，這猶如在一粒沙上建造一座城市，對集成電路芯片生產工藝提出了很高的要求。在半導體器件制造過程中，對痕量元素雜質的控制會直接影響半導體產品的良品率。這要求對半導體制程中的晶圓、超純水、化學試劑、光刻膠、電子特氣等進行嚴格的無機元素檢測。目前，根據新的制程要求，SEMI(半導體設備和材料協會)Grade 5 標準，半導體用超純水本底要求為小于1ppt水平，所有超純化學品中關鍵無機元素離子小于10ppt，更有半導體生產企業依據其制程工藝，提出需達到5ppt甚至更低的水平。
 

　　珀金埃爾默為滿足嚴苛的痕量元素、超痕量元素檢測而開發的NexION 5000，具有業內*的四組四極桿設計，結合碰撞反應池技術，可提供超低的背景等效濃度、優異的檢出能力和基體耐受性，可實現高準確度和高可重現性的分析結果。其四組四極桿質譜平臺和四路碰撞反應氣，可以依據不同的應用需求，簡單、靈活地進行選擇，在性能上較現有的高分辨HR-ICP-MS、傳統三重四極桿和單四極桿ICP-MS均有質的提升，可滿足半導體行業越來越嚴苛的工藝質控要求。
 

　　在報告之后，這位高級產品經理還受到了媒體的關注，并接受了中國集成電路和半導體行業觀察的采訪，請他介紹珀金埃爾默在半導體行業檢測中的布局及其分析檢測技術如何助力半導體行業發展。

 

　　優良儀器 助您檢測
 

　　珀金埃爾默可提供傅里葉變換紅外光譜儀、紅外顯微鏡、紫外可見近紅外分光光度計、差示掃描量熱儀、熱機械分析儀等產品，用于測定固化率、固化熱、熱膨脹系數、透光率、反射率、微觀污染物、成分濃度等，為客戶提供全面的解決方案。化學分析與檢測對集成電路生產非常重要，它們為確保芯片生產質量，改善良品率，提供敏銳的“眼睛”。前不久，業界就發生過因光刻膠中相關金屬離子不達標從而引起幾億美金損失的慘痛教訓。珀金埃爾默在半導體行業的檢測方案囊括了無機元素與納米顆粒檢測、AMC及VOCs等有機物檢測以及IC封裝中材料檢測等方面，能有效地為企業規避上述風險。

 

　　如同我司高級產品經理于采訪中所言：
 

　　“我們期待與用戶一同，引進和開發更多有針對性的應用方案，用更好的技術和可靠的儀器為客戶帶來實實在在的幫助，助力中國半導體行業的發展”。