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高剪切均質機和高壓均質機哪個效果好
高剪切均質機與高壓均質機作用的區別：
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| 高剪切均質機 | 高壓均質機 |
| 原料要求 | 粉狀物、塊狀料或水果可直接投入 | 必須先將物料融化混合為流體后方可均質 |
| 易損耗件 | 兩年內無需更換配件，無易損件 | 均質閥、密封件使用兩、三個月便需要經常更換 |
| 生產操作 | 靈活、簡便、無需專人操作 | 需專人操作、調節 |
| 耗能 | 耗電量為高壓均質機的1/3 | 耗電量高，能源浪費 |
| 適應范圍 | 適用范圍廣 | 不適宜高粘度的物料 |
| 酸堿性 | 適應性強 | 適應性弱 |
| 均質效果 | 均質細度可達1μm以下，穩定性好 | 均質細度小，穩定性好。不過在某些行業效果較差 |
| 綜合效果 | 混料、殺菌、均質同時完成 | 只能單獨均質用 |
| 清洗方法 | 自動清洗 | 清洗復雜 |
高剪切均質機與高壓均質機的均質機理的比較：
| 比較 | 高剪切均質機 | 高壓均質機 | ||
| 宏觀 | 剪切作用 | 主要通過液滴在高速旋轉的轉子和定子間的間隙內被剪切，以及由此間隙和轉子——定子上小孔射流的綜合效應來實現。 | 料液在高壓下流過縫隙時，液滴先是被延伸，后因通過閥時的渦動作用，使延伸部分剪切拉碎。 |
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| 撞擊作用 | 高速旋轉的液滴受慣性離心力的推動，具有很大的沖擊力，因而產生撞擊作用。 | 在均質閥縫隙中高速沖出的液流出口處置有擋圈，因而產生高速撞擊作用。 |
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| 空穴作用 | 離心力的作用使未進入環隙時的液體具有一定壓力，而進入環隙后成為高速旋轉液流，液體離開定子小孔后壓力又回升，所以也有一定的空穴效應 | 液流進口處靜壓很高，過狹縫時，靜壓能轉化為動能，壓力迅速大幅度地下降，在其縫隙內瞬時引起空穴現象，離開縫隙后壓力的回升又使空穴消失，因而使液滴破碎 |
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| 微觀 | 高剪切均質機高速旋轉時的液滴流動狀況相當復雜，主要受控于作用在液滴表面不斷變化的流動速度和由此產生的脈動壓力，從而發生了分裂液滴的張力，使液滴破裂。 | 高壓均質機提供給液滴破裂的能量來自于料液在進口處攜帶的*靜壓能。 | ||
目前國內常用的剪切式均質機線速度多為10～ 25m/ s。實踐證明其均質效果并不理想。高剪切均質機指線速度達到30～50m/ s 的剪切式均質機, 其主要工作部件為1 級或多級相互嚙合的定轉子, 每級定轉子又有數層齒圈。
研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達到顆粒*被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩定（stabilization）目的。
在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運動現象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當的研磨機來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關鍵技術。
納米研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。
級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
