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告別傳統檢測!高分子材料研究利器,顯微CT精準無損檢測有多強!2024/9/13
高分子材料由于其輕質、耐腐蝕、易加工等特性,被廣泛應用于汽車、航空、建筑、醫療器械等多個行業。然而,高分子材料的微觀結構和內部缺陷對其性能有著至關重要的影響,因此如何準確地表征這些材料的微觀結構是材料...
Phenom MAPS:為何材料研究人員都在悄悄使用這款軟件?2024/9/10
PhenomMAPS多模態多維度地圖式圖像自動采集及拼接軟件,可自動獲取大型圖像數據集,并直觀地組合和關聯多種成像、分析模式,從而提供多尺度和多模態的表征數據。該軟件支持Phenom全系列臺式掃描電子...
物相分析拿不準?試試這個!ChemiPhase 物相分析軟件2024/8/30
對于金屬合金和礦物分析領域的研究人員來說,物相分析非常重要,物相分析通??梢越柚鷴呙桦婄R背散射電子信號成像(BSE)和能譜(EDS成分分析)來進行判定。掃描電鏡背散射電子成像(BSE)信號強度隨原子量...
掃描電鏡特殊類型樣品制備系列 03--不導電樣品的2種應對方法2024/8/29
掃描電鏡鏡特殊類型樣品制備系列03--不導電樣品的2種應對方法對于不導電材料,在入射電子束的作用下,其表面會積累電荷,這些電荷會對掃描電鏡背散射電子成像和二次電子成像產生不良影響;同時對入射電子束產生...
原子層沉積技術在鋰電正極材料中的應用:萬金油氧化鋁涂層2024/8/22
上一篇我們介紹了電極粉體材料表面ALD包覆的必要性以及帶來的性能改變。由于原子層沉積(ALD)涂層的選擇眾多,本文將選取常見的涂層的一些研究工作進行介紹。我們依然使用:01PC代表粉末ALD處理的樣品...
顯微CT:解密骨骼微結構的科學利器2024/8/21
探索顯微計算機斷層掃描(Micro-CT)技術如何通過高分辨率三維成像,為骨科研究和臨床應用帶來突破。了解Micro-CT在無損分析骨組織結構、骨密度測量、骨折和骨愈合研究中的應用,以及如何通過Neo...
使用飛納電鏡對 3D 打印金屬微彈簧進行原位電性能測試!2024/8/19
微機電系統(MEMS)和許多其他微尺度電子元件都需要精細操作和電性能探測。這些元件的分析在從學術研究到工業規模生產和質量控制的多個領域中具有重要意義。在這些情況下,通常需要在最短的時間內獲得最佳結果。...
飛納臺式掃描電鏡助力納米纖維在心血管組織再生中的研究2024/8/14
論文題目:DurableImmunomodulatoryNanofiberNichefortheFunctionalRemodelingofCardiovascularTissue發表期刊:《ACSN...
一睹為快!古埃及沙伯提穿越在你眼前,顯微CT還原考古文物有多強2024/8/13
一睹為快!古埃及沙伯提穿越在你眼前,顯微CT還原考古文物有多強烈日炎炎,然而比酷暑更熱的是由上海博物館主辦舉辦的“金字塔之巔:古埃及文明大展”。作為有史以來規模龐大、亞洲等級最高的古埃及文物出境展,吸...
TOP 科學雜志報道:與飛納電鏡一起探索地球最年輕洞穴的炙熱深處2024/8/9
《史密森尼(Smithsonian)》雜志,隸屬于美國史密森尼學會,該學會1846年成立。《史密森尼(Smithsonian)》雜志是美國華盛頓特區的史密森學會發行刊物,于1970年出版第一期雜志。索...
清潔制氫正當時 | 火花燒蝕技術能進行單原子/原子簇催化劑制備嗎2024/8/9
在我們之前的文章(團簇催化劑:揭開微型“泰坦”的力量│原子團簇簡介及其在電催化中的應用)中,我們深入研究了催化劑簇(超細顆粒)領域,它們可以對催化劑活性位點進行控制,從而大大提高催化劑的性能。今天,我...
飛納 Pharos-STEM 掃描透射電鏡在細胞生物學和病理學的應用2024/8/6
飛納Pharos-STEM在細胞生物學和病理學的應用一直以來,透射電鏡(TEM)是觀察和研究超微結構的工具,可用于觀察整個細胞結構,包括細胞壁、細胞膜、細胞核和各種細胞器的變化,以及外源物質與細胞之間...
原子層沉積用戶分享|研發高能量密度固態鋰硫電池2024/7/30
01用戶前沿成果分享文章:HighSulfurLoadingandCapacityRetentioninBilayerGarnetSulfurized-Polyacrylonitrile/Lithiu...
飛納電鏡彩色成像,給你的掃描電鏡來點“顏色”看看2024/7/29
隨著工業生產日益復雜和產品標準不斷提高,部件的質量控制和生產速度變得越來越重要。對于實驗室和質量管理負責人而言,往往需要在技術人員較少、時間有限的情況下提供分析結果。目前,標準的行業解決方案是將用于獲...
原子層沉積(ALD)揭秘:成功開發、優化和表征 ALD 的 10 個步驟2024/7/24
原子層沉積技術(ALD)是一種一層一層原子級生長的薄膜制備技術。理想的ALD生長過程,通過選擇性把不同的前驅體暴露于基片的表面交替,在表面化學吸附并反應形成沉積薄膜。由于前驅體和共反應物與基底表面基團...

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