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均質分散技術
播放：1243 上傳時間：2024-07-12超高壓微射流均質技術，在CMP拋光液上的應用，諾澤流體 超高壓微射流均質機;CMP 拋光液是化學機械拋光過程中使用的關鍵材料。超高壓微射流均質機對 CMP 拋光液進行均質處理能夠細化顆粒、均勻分散，避免顆粒團聚或成分分布不均，確保拋光過程的穩定性和一致性。有助于改善拋光液化學活性和物理性能，提高拋光效率。在實際應用中，需根據具體的 CMP 拋光需求和拋光液特性，選擇合適的超高壓微射流均質機，并優化相關工藝參數，以實現最佳的拋光效果。同時，還需注意設備的操作規范和維護保養，以確保其穩定運行和性能發揮。
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