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詳細摘要： 簡單介紹：雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備

詳細摘要： 簡單介紹：本設備為傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀，樣品臺與靶面的角度可調，可用于制作特定生長角度的薄膜。設備外形為桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流...

詳細摘要： 簡單介紹：本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有...

詳細摘要： 簡單介紹：本設備為桌面型行星式單靶磁控鍍膜儀，腔體下半部為不銹鋼機構，上部為高純石英，兼顧了真空性能和容納復雜樣品臺的功能型。設備外形為桌面級別，大大減少了安裝...

詳細摘要： 簡單介紹：單靶磁控鍍膜儀配有一個直流電源，可用于金屬及其他導電材料的濺射。單靶磁控鍍膜儀真空系統采用渦輪分子泵組，抽氣速度快，極限真空度高，真空性能優異。本設備...

詳細摘要： 簡單介紹：本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個高性能直流電源，具有煉靶功能，有效去...

詳細摘要： 簡單介紹：本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有...

詳細摘要： 簡單介紹：三靶磁控濺射鍍膜機是我公司自主研發的高性價比的磁控濺射鍍膜設備。 它是標準化，模塊化和可定制的。該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜，導電膜，合金膜，半...

詳細摘要： 簡單介紹：CY-MSP210S-RFD桌面型雙靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，在保留高真空不銹鋼腔體的同時，精簡了其他機構，將設備外形限制在了桌面級別，大大減...

詳細摘要： 簡單介紹：桌面型單靶磁控鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基板的大...

詳細摘要： 簡單介紹：三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基...

詳細摘要： 簡單介紹：雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光...

詳細摘要： 簡單介紹：本設備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。本套配置采用石英真空腔體，鍍...

詳細摘要： 簡單介紹：雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光...

詳細摘要： 簡單介紹：磁控濺射/真空蒸發復合型鍍膜設備將磁控濺射技術和真空蒸發技術結合在同一鍍膜設備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺出并部分離化沉積在基材上成膜，...

詳細摘要： 簡單介紹：三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基...

詳細摘要： 簡單介紹：三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基...

詳細摘要： 簡單介紹：三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基...

詳細摘要： 簡單介紹：雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基...

詳細摘要： 簡單介紹：雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基...