CO 2 雪噴射清潔工藝以高效率從表面去除微米和亞微米顆粒，并且還去除基于碳氫化合物的污染物。CO 2雪清潔是非破壞性的、非磨蝕性的、無殘留的，并且不會產生化學廢物。

二氧化碳除雪可用于初始或后期清潔，以及半導體、磁盤驅動器、研究、真空技術、表面科學、表面分析、光學、醫療、分析儀器、望遠鏡、藝術中的許多關鍵和非關鍵清潔應用保護、制造社區等。
應用

許多不同的清潔應用已被成功展示：

·       從金屬、陶瓷、聚合物和玻璃中去除污染物

·       去除 Si、InP 和 GaAs 晶圓上的顆粒和污點

·       清潔光學元件，即鍍膜鏡片、激光、IR 和 UV 光學元件、光纖

·       表面分析前的樣品制備（俄歇、XPS、SIMS 和 AFM）

·       一般實驗室、生產和潔凈室清潔

·       各種基材制備

·       清潔真空系統組件，包括電子和離子光學器件、波紋管、機加工零件

·       從微電子和混合電路中去除顆粒

·       大望遠鏡鏡

·       藝術修復和清潔，火災后修復 

·       還有很多