ZEISS Sigma 300場發(fā)射掃描電子顯微鏡
用于高品質成像與高級分析的場發(fā)射掃描電子顯微鏡
靈活的探測,4步工作流程,高級的分析性能
將高級的分析性能與場發(fā)射掃描技術相結合,利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選:用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節(jié)省大量的時間:設置成像與分析步驟,提高效率。
Sigma 300 具有*的性價比,可快速方便地實現(xiàn)基礎分析。任何時間,任何樣品均可獲得精準可重復的分析結果。
基于成熟的 Gemini 技術
Gemini 鏡頭的設計結合考慮了電場與磁場對光學性能的影響,并將場對樣品的影響降至更低。這使得即使對磁性樣品成像也能獲得出色的效果。
Gemini in-lens 的探測確保了信號探測的效率。
Gemini 電子束加速器技術確保了小的探測器尺寸和高的信噪比。
靈活的檢測器選項,獲取清晰圖像
使用新穎的ETSE和Inlens探測器在高真空下獲取高分辨率表面形貌信息。
使用VPSE或C2D檢測器在可變壓力模式下獲得清晰圖像。
使用aSTEM檢測器生成高分辨率透射圖像。
使用HDBSD或YAG檢測器分析成分。
ZEISS Sigma 300場發(fā)射掃描電子顯微鏡高級分析型顯微鏡
將掃描電子顯微鏡與基本分析相結合:Sigma背散射幾何探測器大大提升了分析性能,特別是對電子束敏感的樣品。
在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數(shù)據(jù)。
獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角,獲取完整且無陰影的分析結果。