ZEISS Sigma 500場發射掃描電子顯微鏡
用于高品質成像與高級分析的場發射掃描電子顯微鏡
靈活的探測，4步工作流程，高級的分析性能
將高級的分析性能與場發射掃描技術相結合，利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節省大量的時間：設置成像與分析步驟，提高效率。
Sigma 500 裝配有背散射探測器，可快速方便地實現基礎分析。任何時間，任何樣品均可獲得精準可重復的分析結果。
基于成熟的 Gemini 技術
Gemini 鏡頭的設計結合考慮了電場與磁場對光學性能的影響，并將場對樣品的影響降至更低。這使得即使對磁性樣品成像也能獲得出色的效果。
Gemini in-lens 的探測確保了信號探測的效率。通過二次檢測(SE)和背散射(BSE)元件同時減少成像時間
Gemini 電子束加速器技術確保了小的探測器尺寸和高的信噪比。
用于清晰成像的靈活探測
利用*探測術為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
利用新一代的二次探測器，獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創新的 C2D 和 可變壓力探測器，在低真空環境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。
靈活的檢測器選項，獲取清晰圖像
使用新穎的ETSE和Inlens探測器在高真空下獲取高分辨率表面形貌信息。
使用VPSE或C2D檢測器在可變壓力模式下獲得清晰圖像。
使用aSTEM檢測器生成高分辨率透射圖像。
使用BSD4或YAG檢測器分析成分。
ZEISS Sigma 500場發射掃描電子顯微鏡高級分析型顯微鏡
將掃描電子顯微鏡與基本分析相結合：Sigma 背散射幾何探測器大大提升了分析性能，特別是對電子束敏感的樣品。
在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數據。
獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結果。
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