SIGMA 500場發射掃描電鏡

CARL ZEISS以其前瞻性**的設計融合歐洲*制造工藝造就了該品牌在光電子領域無可撼動的地位。自成立至今，一直延續不斷創新的傳統，公司擁有電鏡制造核心*的專有技術，隨著離子束技術和基于電子束的分析技術的加入、是為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業。其產品的高性能、高質量、高可靠性和穩定性已得到*廣大用戶的信賴與認可。作為電鏡標準的CARL ZEISS將一路*電鏡市場為您開創探求納米科技的嶄新紀元。

【核心技術】

蔡司公司推出的Sigma 500場發射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學系統設計，分辨率超過0.8nm，為您提供優秀分辨率和分析性能科研平臺。Sigma500專注于的EDS幾何學設計使您可以獲取*的分析性能。借助Sigma直觀便捷的四步工作流程可以快速成像、簡化分析程序、提高工作效率。您會比以往更快、更多的獲取數據。多種探測器的選擇使Sigma500可以精準的匹配您的應用程序：您可以獲取微小粒子、表面、納米結構、薄膜、涂層和多層的圖像信息。

SIGMA 500場發射掃描電鏡【技術參數】

分辨率：0.8nm@30kV STEM

0.8nm @15 kV

1.4 nm @1kV

放大倍數：10-1,000,000×

加速電壓：調整范圍：0.02-30 kV(無需減速模式實現)

探針電流： 3pA～20nA(100nA選配) 穩定性優于 0.2%/h

低真空范圍：2-133Pa(Sigma 500VP可用)

樣品室： 358 mm(φ)，270.5 mm(h)

樣品臺：5軸優中心全自動

X=130mm

Y=130mm

Z=50mm

T=-4°-70°

R=360°

系統控制：基于Windows 7的SmartSEM操作系統，可選鼠標、鍵盤、控制面板控制

存儲分辨率：32k x 24k pixels

【產品應用】

掃描電鏡廣泛用于材料科學(金屬材料、非金屬材料、納米材料)、冶金、生物學、醫學、半導體材料與器件、地質勘探、病蟲害的防治、災害(火災、失效分析)鑒定、刑事偵察、寶石鑒定、工業生產中的產品質量鑒定及生產工藝控制等。在材料科學、金屬材料、陶瓷材料半導體材料、化學材料等領域，進行材料的微觀形貌、組織、成分分析。各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體/晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。