顯微分光膜厚儀OPTMseries-光學膜厚儀-光學膜厚測試儀 產品描述：

顯微分光膜厚儀OPTMseries-光學膜厚儀-光學膜厚測試儀 是一套快速、準確的顯微分光膜厚測量儀，通過測量顯微區域的光譜反射率，能夠非常精確地分析薄膜厚度和光學常數，可以在多層薄膜和薄膜，晶片和光學材料等各種涂層上進行非破壞性和非接觸式厚度測量，測量速度可達1秒/點。可以測量的技術參數包括：反射率測量厚度分析，光學常數分析（n：折射率k：消光系數）。

工作原理：

Otsuka使用光干涉法和高性能光譜儀提供高精度的非接觸式和非破壞性厚度測量。光干涉法是使用分光光度計光學器件反射率的光學厚度分析技術。 以金屬基材上的涂膜為例，從上方照射的光束在涂層表面（R1）上反射。此外，透射光束在基材或邊界（R2）上反射。根據由光程差和相移引起的光干涉行為，可以使用反射光譜和折射率來計算膜厚度。分析算法為峰谷法，快速傅里葉變換（FFT）方法，非線性最小二乘法和優化方法。

OPTM系列膜厚測量所需的所有功能都集成在測量頭中，可使用顯微鏡進行高精度的反射率測量（多層膜的厚度和光學常數）。這款光學系統，可使用顯微鏡在寬波長范圍（紫外至近紅外）進行測量每點少于1秒的高速測量并且配有帶區域傳感器的安全裝置。簡易分析向導，任何人，甚至未經培訓的操作人員，都可以輕松進行光學常數分析。軟件程序包括用于定制測量序列的宏功能，可以進行各種自定義。

技術參數：

測量參數

• 光譜范圍：230~800nm/360~1100nm/900~1600nm
• 膜厚范圍：1nm~35μm/7nm~49μm/16nm~92μm
• 樣品尺寸：Max. 200 x 200 x 17 mm
• 點徑：φ5μm（反射40倍鏡頭），改造后可達3μm
• 測量時間：1秒/點
• 尺寸：本體（W555xD537xH559mm），控制單元（W500xD180xH288mm）
• 功耗：750VA
• 可選電壓：AC 90 -110 V / 200-240 V

自動XY平臺類型：

• 尺寸(WDH)：556×566×618mm
• 重量：66kg
• 功耗：500VA

固定框架類型：

• 尺寸(WDH)：368×468×491mm
• 重量：38kg
• 功耗：400VA

內置測量頭類型：

• 尺寸(WDH)：210×441×474mm/90×250×190mm
• 重量：23/4 kg
• 功耗：400VA

升級選項：

• 光譜儀規格可選（OPTM-A1/OPTM-A2/OPTM-A3）
• 根據具體測試需求，接受定制

測量案例：