簡介

MPCNT化學氣相沉積CVD 是使用乙醇作為碳源的微型、簡化碳納米管（CNT）合成系統。乙醇是用于生產碳納米管CNT的非常方便的材料。它不需要像甲烷或乙炔氣這樣的可燃氣瓶，并且允許在任何地方進行 碳納米管CNT合成實驗。

MPCNT化學氣相沉積CVD系統不需要使用還原氣（氫氣）來還原催化劑，因為乙醇還具有很強的金屬還原作用。 由于合金中的Ni，Fe或Co催化元素作為催化顆粒被隔離，乙醇的還原作用使CNT可以直接在NiCu，SUS等合金材料上生長，而無需沉積催化劑薄膜。

使用MPCNT化學氣相沉積CVD系統，可以在各種類型的基板（例如硅，石英，不銹鋼，金屬和陶瓷）上生長高度結晶、垂直排列的碳納米管CNT。設備的外形尺寸與個人計算機一樣緊湊。操作簡單，整個過程僅需20至30分鐘。透明的玻璃室可以直接觀察碳納米管CNT的生長過程。該系統適用于大學實驗室的碳納米管CNT合成實驗。

*注意：在碳納米管CNT生長之前，應在基材上沉積一層薄的催化劑膜。如果客戶沒有催化膜形成系統（例如真空沉積設備或濺射系統），建議使用我們的MPCNT-Premium化學氣相沉積CVD 系統，它是一個完整的系統，涵蓋了從催化劑形成到碳納米管CNT生長或功能強大的一系列過程真空沉積設備MPVAP。我們也提供具有催化膜的基材（消耗品）。

臺式化學氣相沉積CVD系統的基本模型旨在讓研究人員僅使用乙醇液體（不使用任何烴類氣體）作為碳源，在襯底（硅、石英、金屬、陶瓷）上生長垂直排列的碳納米管CNT，從而獲得高度結晶的碳納米管CNT。 臺式化學氣相沉積CVD系統可以安裝在任何地方，即使在無法儲存氫氣（例如C2H2或C2H4）的實驗室中。

特征          

• 配備乙醇注入裝置，不需要易燃的烴類氣體
• 碳納米管CNT生長僅需幾分鐘，整個操作過程不到30分鐘
• 結構緊湊、操作簡單、高質量的碳納米管CNT

技術參數