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使用飛納臺(tái)式掃描電鏡的顆粒統(tǒng)計(jì)分析測量系統(tǒng)，以快速、簡便的方式實(shí)現(xiàn)顆粒的可視化分析。飛納臺(tái)式電鏡粒度分析測量系統(tǒng)支持用戶收集多種亞微米顆粒的形態(tài)和尺寸數(shù)據(jù)。
結(jié)合飛納臺(tái)式掃描電鏡干粉制劑顆粒檢測系統(tǒng)，以快速、簡便的方式實(shí)現(xiàn)顆粒的可視化分析，代表著微觀顆粒分析技術(shù)的一大進(jìn)步。快速、易用和超清晰成像質(zhì)量的飛納臺(tái)式掃描電鏡...
高性價(jià)比掃描電鏡 Phenom Pure 裝配的基本組件可以滿足高分辨率成像的要求，這些基本組件不僅可以保證電鏡高質(zhì)量的成像，而且能夠?qū)崿F(xiàn)快速裝載樣品，短時(shí)間內(nèi)...
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 Phenom ProX 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代...
Phenom Particle Metric顆粒測試以較快、較簡便的方式實(shí)現(xiàn)顆粒的可視化分析，是微觀顆粒分析技術(shù)的一大進(jìn)步。快速、易用和超清晰圖像質(zhì)量的Phen...
荷蘭飛納公司推出第二代肖特基場發(fā)射電子源臺(tái)式掃描電鏡 Phenom Pharos G2, 集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析功能于一體。高亮度肖特基場發(fā)射...
第六代 Phenom Pro 高分辨率臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長壽命、高亮度 CeB6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié)合豐富的樣品杯選件...
全新的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應(yīng)用的理想選擇。Phenom XL G2 臺(tái)式掃描電鏡大樣品室版升級為全面屏成像，平均成像時(shí)間僅為 40 秒，...
臺(tái)式離子研磨拋光儀 SEMPrep2 作為新一代的高精密氬離子研磨系統(tǒng)，可以滿足研究人員苛刻的研磨需求。集成式多功能截面拋削以及無損平面拋光系統(tǒng)，為 SEM 以...
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